成立翔安校区设备验收技术小组

2014年10月29日，研究院召开全员大会，决议通过成立低压化学气相沉积系统（简称“LPCVD”）和超高空磁控溅射系统(简称“溅射”)责任小组，对设备运行负有具体指导、检查责任。

LPCVD责任小组成员(按姓氏笔画排序）：吕苗、吕文龙、郭航、崔景芹、蒋书森，崔景芹任组长。

溅射责任小组成员(按姓氏笔画排序）：吕文龙、伞海生、刘源、陈辛夷、张春权、崔景芹，崔景芹任组长。

办公室任林常胜、蔡鹏程、胡菲娜为两责任小组督促、协助人员。其中林常胜为两责任小组总监，主负责LPCVD设备。蔡鹏程主负责溅射设备。胡菲娜负责小组工作会议记录及汇报PPT。