电子束光刻（EBL）免费培训通知

萨本栋微纳研究院院计划于2月21日进行Electron Beam Lithography电子束曝光技术的操作培训。包括由Zeiss SUPRA 55 扫描电子显微镜和Raith ELPHY Quantum图形发生器组成的扫描电子束曝光系统的操作培训，PMMA电子束光刻胶的曝光工艺和显影工艺培训。

电子束曝光技术是一种日益完善的超微细图形加工技术，可以在基片上进行无掩膜直接曝光，具有极高的灵活性，可制作最小尺寸30-100 nm的图形，因此是研制各种超微细结构纳米器件的有力工具。

欢迎各位师生踊跃参加，请于2月19日前发送邮件至 zhengll@xmu.edu.cn报名。

培训时间：2017年2月21日（14:00-18:00）

培训地点：翔安校区文宣楼B504和C107室

培训内容：EBL原理介绍、扫描电子束曝光系统的操作培训，PMMA电子束光刻胶的曝光工艺和显影工艺培训。