石墨烯工艺免费培训通知

单层石墨烯CVD生长，PMMA法转移和拉曼表征

萨本栋微纳研究院计划于3月7日（周二）进行石墨烯CVD生长的操作培训，欢迎各课题组踊跃参加。

(a) ET2000 CVD设备外形; (b) iDSpec拉曼光谱仪外形;

 (c) 扫描电镜下转移至氧化硅片上的石墨烯形貌; (d) 转移至氧化硅片上的石墨烯拉曼光谱;

培训时间：2017年3月7日（8:00-18:00）

培训地点：思明校区亦玄馆302（8:00-9:00 理论综述）和洁净室（工艺）

培训内容：EasyTube 2000（First Nano公司）化学气相沉积设备的操作、PMMA法石墨烯转移工艺、石墨烯拉曼光谱法检测。

气相沉积方法生长的石墨烯单层性好、覆盖率高、晶粒较大，适合在铜箔或镍片等金属衬底上生长，也可以开发在MgO、SiO2等基底上生长的工艺。本设备控制系统精密、自动化程度高、工艺参数范围较广，可放入基片最大尺寸～6x15 cm。

报名方式：请于3月6日前发送邮件至 jqcui@xmu.edu.cn报名（姓名、课题组、院系、联系方式）。因洁净室内空间有限，且为保证培训质量，工艺培训初步限定在20人，每课题组至多2人。如感兴趣的课题组>20，可能将限制每课题组1人，造成的不便还请谅解。

备注：因需要进洁净室，请着装适宜，无化妆，长头发扎起，尽量穿厚袜子。